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    加氫氮氣純化設備

    工藝原理:加氫脫氧裝置以普氮為原料,經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經過濾除去氮氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。

    除氧原理為:H2+O2→H2O

       


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    工藝原理:

    加氫脫氧裝置以普氮為原料,經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經過濾除去氮氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。

    除氧原理為:H2+O2→H2O


    加氫氮氣純化設備技術指標:

    處理氣量:10-500Nm3/h

    原料氮氣純度:≥99.5%
    產品氮氣純度:99.9995% O2≤5ppm H2:微量
    露點:≤-60℃
    產品氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa


    工藝流程圖:

    31-3.png


    加氫氮氣純化設備主要技術參數表:

    31-4.png


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